[1]王如志,王波,严辉.场致电子发射薄膜材料研究评述[J].中国材料进展,2009,(3):006-12.
　Thin Film MaterialsWANG Ruzhi,WANG Bo,YAN Hui.A Critical Review of FieldElectronEmission[J].MATERIALS CHINA,2009,(3):006-12.
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场致电子发射薄膜材料研究评述
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中国材料进展[ISSN:1674-3962/CN:61-1473/TG]

卷:
期数:
2009年第3期
页码:
006-12
栏目:
前沿综述
出版日期:
2009-05-10

文章信息/Info

Title:
A Critical Review of FieldElectronEmission
作者:
王如志; 王波; 严辉
北京工业大学材料科学与工程学院
Author(s):
Thin Film MaterialsWANG Ruzhi;  WANG Bo;  YAN Hui
College of Materials Science and Engineering，Beijing University of Technology
关键词:
场发射; 薄膜; 综述
文献标志码:
A
摘要:
场致电子发射（场发射）薄膜材料由于在场发射平板显示器、电子源等诸多高性能真空微电子器件上具有广阔的应用前景，引起了人们广泛的关注与研究兴趣。综述了场发射薄膜材料的理论与实验研究进展，并评述了场致电子发射薄膜材料研究的瓶颈问题及未来发展方向与趋势。
更新日期/Last Update: 2009-05-19