[1]李天富,陈东风,刘蕴韬.中子反射技术及其在薄膜材料研究中的应用[J].中国材料进展,2009,(12):006-9.
LI Tianfu,CHEN Dongfeng,LIU Yuntao.Neutron Reflectometry and Its Application in Studies of Thin Films[J].MATERIALS CHINA,2009,(12):006-9.
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中子反射技术及其在薄膜材料研究中的应用(
)
中国材料进展[ISSN:1674-3962/CN:61-1473/TG]
- 卷:
-
- 期数:
-
2009年第12期
- 页码:
-
006-9
- 栏目:
-
特约研究论文
- 出版日期:
-
2010-01-28
文章信息/Info
- Title:
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Neutron Reflectometry and Its Application in Studies of Thin Films
- 作者:
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李天富; 陈东风; 刘蕴韬
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中国原子能科学研究院 核物理研究所
- Author(s):
-
LI Tianfu; CHEN Dongfeng; LIU Yuntao
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Department of Nuclear Physics,China Institute of Atomic Energy
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- 关键词:
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中子反射; 薄膜材料; 研究与应用
- 文献标志码:
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A
- 摘要:
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中子反射技术作为薄膜材料结构和性能表征手段之一，目前得到了广泛的应用，尤其是在磁性薄膜和有机薄膜等研究领域的某些方面更有其不可替代的作用。将根据中子反射技术的特点，简单介绍其基本原理和实验技术方法，以及在某些方面的研究优势，并列举一些在聚合物、生物、磁性等领域的典型应用实例，为想要了解和使用该技术的科研人员提供有益的帮助
备注/Memo
- 备注/Memo:
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收稿日期：2009-10-28
基金项目：国家重点基础研究发展计划（2010CB833101）资助
通信作者：刘蕴韬，男，1972年生，博士，研究员
更新日期/Last Update:
2010-02-25