[1]何季麟,潘伦桃,郑爱国,等.钽粉的低温掺氮及氮在钽中的分布[J].中国材料进展,2010,(2):050-52.
 HE Jilin,PAN Luntao,ZHENG Aiguo,et al.Method of Tantalum Powder NitrogenDoping and the Distribution of Nitrogen in Tantalum[J].MATERIALS CHINA,2010,(2):050-52.
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钽粉的低温掺氮及氮在钽中的分布
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中国材料进展[ISSN:1674-3962/CN:61-1473/TG]

卷:
期数:
2010年第2期
页码:
050-52
栏目:
研究报告
出版日期:
2010-04-25

文章信息/Info

Title:
Method of Tantalum Powder NitrogenDoping and the Distribution of Nitrogen in Tantalum
作者:
何季麟1潘伦桃1郑爱国1王向东2
(1中色有色集团公司,宁夏 石嘴山 75300)
(2北京有色金属研究院,北京 100038)
Author(s):
HE Jilin1PAN Luntao1ZHENG Aiguo1WANG Xiangdong2
](1National Special Metal Materials Engineering Research Center of Tantalum and Niobium,Shizuishan 753000,China)
(2Beijing General Research Institute for Nonferrous Metals,Beijing 100088,China)
关键词:
钽粉掺氮氮在钽中的分布
文献标志码:
A
摘要:
叙述了钽粉在镁还原脱氧后引入氮气对钽粉进行掺氮,在200 ℃以下01 MPa以上,保温时间大于2 h时,得到的钽粉粒子间含氮差别率在20%以下。用俄歇电子能谱仪对渗氮的钽表面进行元素分布研究,发现氮在钽中分布是不均匀的,对于每个粒子也是外表面氮浓度大于钽内部的氮浓度。

备注/Memo

备注/Memo:
收稿日期:2009-10-19
通信作者:何季麟,男,1945年生,中国工程院院士
更新日期/Last Update: 2010-05-27